5nm芯片無需光刻機！中國科技公司已申請制造專利

【手機中國新聞】9月15日，手機中國注意到，天眼查App顯示，上海創消新技術發展有限公司申請的“5納米芯片制造的直接蝕刻方法”專利公布。摘要顯示，該發明涉及芯片設計及制造，方案是：按5nm蝕刻線寬設計芯片版圖，設計蝕刻掩模版后，用激光直寫光刻機刻出蝕刻掩模版；晶圓準備好后將蝕刻掩模版緊靠晶圓上表面，用等離子體進行干法蝕刻，蝕刻結束后移去蝕刻掩模版，清潔晶圓，進行后續常規的芯片制造步驟。這項發明的亮點在于，不用EUV光刻機或DUV光刻機，不需要光刻過程，直接蝕刻就可以制造5納米芯片。

天眼查顯示，上海創消新技術發展有限公司成立于2019年3月，法定代表人為劉明革，注冊資本50萬人民幣，經營范圍包括電子技術、化工技術、建筑技術、生物技術領域內的技術開發等，由劉明革和劉佳慧共同持股。

未來幾年，我們期待上海創消新技術發展有限公司能夠在芯片制造領域取得更多的突破性成果，并將這項新技術推向商業化階段。對于整個半導體行業來說，這種創新技術的出現無疑帶來了新的希望和動力，推動行業不斷向前發展，邁向更先進的制造工藝和更廣闊的應用領域。盡管目前這項技術還處于實驗室階段，但是其潛在的影響力不容忽視。