集邦咨詢：2023年半導(dǎo)體光刻膠市場收入下降6-9%，明年有望復(fù)蘇

集邦咨詢：2023年半導(dǎo)體光刻膠市場收入下降69%，明年有望復(fù)蘇

IT之家 12 月 27 日消息，集邦咨詢近日發(fā)布《2023 年全球光刻膠市場分析》，預(yù)估 2023 年半導(dǎo)體光刻膠市場銷售收入同比下降 69%。

不過該機構(gòu)預(yù)估隨著下游客戶庫存持續(xù)改善和產(chǎn)能逐步恢復(fù)，2024 年半導(dǎo)體行業(yè)將經(jīng)歷復(fù)蘇，光刻膠需求也有望反彈。

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

光刻膠是光刻工藝中的關(guān)鍵材料，主要應(yīng)用于積體電路和分立器件的細微圖形加工。

光刻膠品種眾多，本次提價涉及的 KrF 光刻膠屬于高端光刻膠，是未來國內(nèi)外廠商的主要競爭市場之一。

目前光刻膠市場一直由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學、住友化學和東進半導(dǎo)體等主要制造商主導(dǎo)。

光刻膠行業(yè)需要高度專業(yè)化，涉及復(fù)雜的樹脂、感光酸和添加劑配方，每家公司都將其視為商業(yè)機密。

巨大的技術(shù)壁壘，加上從實驗室試驗到市場生產(chǎn)對純度和性能的需求，使得整個產(chǎn)品開發(fā)過程既耗時又復(fù)雜。

此外，滿足客戶要求和生產(chǎn)線的調(diào)整需要 1 到 3 年的驗證，讓客戶難以轉(zhuǎn)移現(xiàn)有合作的光刻膠公司。

IT之家附上光刻膠市場分析主要內(nèi)容如下：

預(yù)計 2024 年半導(dǎo)體需求將反彈

隨著下游客戶庫存的持續(xù)改善、產(chǎn)能利用率的逐步恢復(fù)，以及 AI、智能汽車等應(yīng)用的成熟和激增，預(yù)計半導(dǎo)體行業(yè)將在 2024 年經(jīng)歷復(fù)蘇。

半導(dǎo)體光刻膠市場也有望反彈，市場規(guī)模將恢復(fù)到 2022 年的歷史峰值，并進一步增長，到 2027 年將超過 28 億美元。

高端光刻膠展現(xiàn)巨大增長潛力，中韓供應(yīng)商力爭本土化突破

隨著對先進工藝需求的持續(xù)增長，EUV、ArFi / ArF 等高端光刻膠也將持續(xù)增長。特別是，EUV 光刻膠有望大幅增長，這主要是因為該行業(yè)追求具有更高計算能力和能源效率的芯片。

使用 EUV 技術(shù)生產(chǎn)的先進芯片數(shù)量預(yù)計將大幅增加，使 EUV 光刻膠成為半導(dǎo)體光刻膠市場中增長潛力最大的細分市場，預(yù)計到 2025 年，EUV 光刻膠將占 10% 的市場份額。

由于光刻膠生產(chǎn)的進入壁壘很高，目前，日本制造商主導(dǎo)著全球光刻膠市場，供應(yīng)比例約為 80%。

特別是在 EUV、ArFi / ArF 等先進光刻膠領(lǐng)域，JSR、TOK 和信越化學等日本大公司占據(jù)絕對主導(dǎo)地位，此前也經(jīng)歷了多次光刻膠供應(yīng)商的供應(yīng)中斷事件。

為應(yīng)對供應(yīng)中斷的風險，中韓兩國都積極推進光刻膠生產(chǎn)的國產(chǎn)化。

在韓國，Dongjin Semichem 和 SK Materials 等公司在先進光刻膠領(lǐng)域取得了重大進展，實現(xiàn)了部分 ArFi 和 EUV 光刻膠的國產(chǎn)化。

而我國中低端光刻膠產(chǎn)能率已達到 30%，并不斷加強 ArF 和 EUV 光刻膠領(lǐng)域的研發(fā)力度。ArF 光刻膠已實現(xiàn)部分進口替代，預(yù)計未來國內(nèi)產(chǎn)能將逐步提升。